英特爾副總裁:Intel4工藝良率高于預(yù)期,比起Intel7更注重“能效
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,在當(dāng)?shù)貢r(shí)間 22 日在馬來(lái)西亞檳城舉行的集體采訪(fǎng)中,英特爾邏輯開(kāi)發(fā)副總裁 William Grimm 表示 Intel 4制程的良率高于預(yù)期,他對(duì)此充滿(mǎn)信心。
Intel 4 是英特爾工藝中首次應(yīng)用極紫外光的工藝。根據(jù) IC Knowledge 提供的逆向工程數(shù)據(jù),Intel 4 工藝的性能優(yōu)于臺(tái)積電 5nm,接近 3nm 工藝,但 William 堅(jiān)持“很難將 Intel 4 與其他代工廠(chǎng)的現(xiàn)有節(jié)點(diǎn)進(jìn)行比較,所以只是參考外部基準(zhǔn)測(cè)試執(zhí)行了自己的 PPA”。
“通過(guò) EUV,我們可以控制工藝復(fù)雜性”,“我們成功收獲得了比預(yù)期更高的產(chǎn)量”,他說(shuō)道。
William Grimm 介紹稱(chēng),Intel 4 節(jié)點(diǎn)是一個(gè)特別注重能源效率的工藝?!叭绻f(shuō) Intel 7 工藝是專(zhuān)注于性能最大化的工藝,那么 Intel 4 則專(zhuān)注于提高能效”,“它更適合筆記本電腦等應(yīng)用”。
他還表示,“已經(jīng)有足夠的保障來(lái)滿(mǎn)足市場(chǎng)需求”,并且“未來(lái)幾年的計(jì)劃,比如 Intel 3 已經(jīng)確定了”。
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